一、儀器主要用途
鋼鐵行業(yè)、有色金屬、合金鑄造、機械加工、商檢質檢、材料研究

二、儀器技術原理和參數(shù)
1、儀器工作原理
原子或離子可處于不連續(xù)的能量狀態(tài)，該狀態(tài)可以用光譜項來描述；當處于基態(tài)的原子或離子吸收了一定的外界能量時，其核外電子就從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，而處于激發(fā)態(tài)的原子或離子很不穩(wěn)定，經(jīng)由約 秒便躍遷返回基態(tài)，并將激發(fā)所吸收的能量以光的形式放出，將這些光按一定的波長順序排列即為原子光譜；由于特定元素可產(chǎn)生一系列不同波長的光，通過識別待測元素的特征光譜存在與否即可進行定性分析，根據(jù)該波長光的強度進行定量分析。
激發(fā)臺中的電極與預先制備好的金屬樣本之間在激發(fā)過程中產(chǎn)生電火花�；鸹òl(fā)出的光通過入射狹縫進入光室，通過光柵分光后，不同波長的光以不同的角度分開，照射到CMOS傳感器上。傳感器將光信號轉化成為電信號，并通過測量系統(tǒng)傳輸給計算機，經(jīng)處理后，得出分析結果。
2、主要技術參數(shù)
項目 指標
檢測基體 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個基體
光學系統(tǒng) 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)
波長范圍 165-589nm（可安裝上下限檢測器擴大波長范圍）
探 測 器 高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型 DDD數(shù)字激發(fā)光源，高能預燃技術（HEPS）
放電頻率 100-1000Hz
放電電流 400A
檢測時間 依據(jù)樣品類型而定，一般在25s左右
電極類型 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng) 真空軟件自動控制、監(jiān)測
氬氣純度 99.999%
氬氣壓力 0.5MPa
工作電源 AC220V 50/60Hz
儀器尺寸 750*560*350mm